东洋碳业株式会社2022年10月27发布消息称，为了应对Si（硅）半导体及SiC（碳化硅）半导体等化合物半导体用途的旺盛需求， 决定对其位于日本香川县的的工厂进行资本投资，投资金额达70亿日元，以提高高纯度石墨产品和SiC涂层石墨产品的生产能力。

该香川县工厂生产及销售半导体设备结构部件中的高性能石墨产品，由于物联网、AI 和 EV 等技术的进步，对石墨产品的需求也在增加。

在包括Si半导体和SiC半导体等化合物半导体的晶圆制造工艺中，除了温度超过1000度外，由于半导体工艺的小型化，作为结构构件的石墨也需要高纯度，因此许多产品都采用高纯度处理石墨，具有高耐热性。

此外，高纯度石墨产品也用于半导体制造工艺，如离子注入，以及各种应用，如太阳能电池和光纤制造。SiC 涂层石墨产品在各向同性石墨上涂有 SiC 薄膜，用于 SiC 半导体的外延工艺，该工艺可抑制石墨基材颗粒和气体的产生，是处理高压和大电流的功率半导体的代表。 特别是，随着电动汽车和节能相关市场的增长，对SiC半导体的需求不断增长。

根据确保半导体市场需求在中长期内增长的增长战略，公司将投资约70亿日元，提高高纯度石墨和SiC涂层石墨产品的生产能力，以满足市场需求。

中期管理计划计划在2022-2026年的五年内实施370亿日元的资本投资，其中六成为战略投资。 在资本投资方面，不仅致力于提高产量，还通过进一步追求质量、通过自动化等方式节省人力，提高生产效率。 因此，到2025年，高纯度石墨产品的生产能力将比2022财年高出约1.5倍，SiC涂层石墨产品的产能将在2024年提高1.5倍。 今后，我们将通过加强生产和销售系统，准确把握客户的需求和市场趋势，实现稳步增长。

[投资概述]

提高高纯度石墨产品的生产能力（詫间事业所（香川县三丰市））
（1）投资内容 高纯度化处理炉（建筑物扩建）
（2）投资金额 约50亿日元
（3）增强能力 约1.5倍（与2022年度相比）
4运转时期 2025年

SiC涂层处理能力 提高石墨产品的生产能力（大野原生产技术中心（香川县观音寺市）
（1）投资内容 SiC涂层处理炉
（2）投资金额 约20亿日元
（3）增强能力 约1.5倍（2022年度相比）
4运转时期 2024年

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